真空镀膜设备精密打造光学薄膜

       现代光学领域，从眼镜片的防反射涂层到天文望远镜捕捉宇宙深空的镜面，从智能手机摄像头清晰的成像到激光器精准的能量传输，背后都离不开一类“看不见”的关键技术：光学薄膜。而真空镀膜设备，作为制备高质量光学膜的核心装备，在光学膜的生产中发挥着不可替代的作用。通过真空镀膜技术，能够在光学元件表面精确地沉积一层或多层具有特定光学、物理性质的薄膜，从而实现对光的反射、透射、吸收、偏振等特性的精准调控。

       真空镀膜技术，顾名思义，是在高度真空的环境下，将特定的材料（靶材）以原子或分子形态“搬运”并沉积到光学元件（基片）表面的过程。真空环境至关重要。

真空镀膜设备在光学领域创造出种类繁多的薄膜：
1.增透膜： 减少透镜、棱镜、窗口表面的反射光损失，提高透光率（如相机镜头、眼镜片、太阳能电池盖板）。通过精心设计的多层膜系实现接近零反射。
2.反射膜： 在镜面、激光腔镜、望远镜中实现高反射率。金属膜（铝、银、金）或介质高反膜是核心。高功率激光反射镜对低吸收、高损伤阈值要求极高。
3.分光膜： 将入射光按特定波长或比例分成反射光和透射光（如分光棱镜、光纤耦合器）。
4.滤光片： 选择性透过或阻挡特定波长范围的光。
5.带通滤光片： 仅允许很窄波段的光通过（如荧光显微镜、生化分析仪）。
6.长/短波通滤光片： 允许长/短于特定波长的光通过（如红外热像仪、色彩传感器）。

7.陷波滤光片： 阻挡特定波段的光（如激光防护眼镜）。

在光学薄膜领域，核心镀膜技术占据绝对主导地位，主要包含两大类：

一、真空蒸发镀膜：

• 原理： 在真空室中加热蒸发源（电阻加热、电子束轰击、激光等），使靶材熔化、蒸发或升华，产生的蒸气原子在基片表面冷凝成膜。
• 特点： 设备相对简单，沉积速率较高，非常适合沉积多层介质膜（如氟化镁 MgF₂，二氧化硅 SiO₂，二氧化钛 TiO₂，五氧化二钽 Ta₂O₅）。
• 应用： 广泛用于制造增透膜、分光膜、反射膜等。电子束蒸发是当前光学镀膜的主流技术之一。

二、溅射镀膜：

• 原理： 在真空室中充入少量惰性气体（如氩气 Ar），施加高压使气体电离形成等离子体。等离子体中的高能离子（如 Ar⁺）轰击靶材表面，将靶材原子“敲击”出来（溅射），这些原子飞向基片并沉积成膜。
• 特点： 膜层致密度高、附着力强、成分控制精准（尤其是反应溅射制备化合物膜）、均匀性好，适合复杂膜系和大面积镀膜。磁控溅射技术显著提高了溅射效率和膜层质量。
• 应用： 高性能要求的光学薄膜（如精密激光反射镜、滤光片）、导电膜（ITO）、硬质保护膜、复杂化合物膜系。

腾胜科技提供专业的光学膜制造真空镀膜设备解决方案：

• 光学多层膜连续镀膜线： 专为玻璃/塑胶平板基片设计，立式多腔体结构确保高稳定性，支持大面积、大批量连续生产，可灵活进行单/双面镀膜
• 立式磁控溅射镀膜机： 适用于光学膜及AF膜（防指纹膜） 制备，具备优异重复性、稳定性及强膜层结合力。配置多组平面/旋转阴极与直流/中频电源，广泛应用于消费电子（手机、平板、笔电、后盖）及车载显示等领域。

        真空镀膜技术，通过物理气相沉积将功能性光学薄膜精密“镀制”于元件表面，是现代光学的核心支撑。未来，该技术将持续向高精度、智能化、绿色环保方向深度发展。