高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）介绍

       高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是一种先进的物理气相沉积（PVD）技术，通过在靶材上施加高能脉冲电压，产生高密度的等离子体。在高功率脉冲模式下，磁控溅射靶材表面形成高密度等离子体区域，其中的电子与中性原子碰撞，使溅射出的材料原子被有效地离子化，这些离子在电场作用下加速飞向基材并沉积在其表面，形成薄膜。

       适用于最广范围的涂层材料和刀具基材，HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射)集合了切削刀具所有涂层技术的优点。

HiPIMS优势：

1.HIPIMS+溅射技术：灵活性、涂层厚度、光滑度;
2.HIPIMS+电弧技术：附着力、硬度/韧性、沉积速率;

（1）重载切削的完美解决方案，可提供高达12μm的涂层厚度

（2）切削刃涂层均匀：高离化率使得涂层结构极为致密，保证了高硬度和高韧性。使HiPIMS沉积的涂层非常均匀。

（3）微小径刀具的首选：无瑕疵、无尖端效应。由于无液滴，对切削刃无损害及刃口圆化，因此HiPIMS非常适用于微小径刀具。
（4）热过载保护：HiPIMS涂层结构致密，隔热性好，有效保护基体免受热过载，热量主要通过切屑排出。
（5）极好的残余应力管理，增大厚度可选性，优于电弧及CVD涂层高拉应力缺陷。
（6）最大的灵活性：HiPIMS作为溅射工艺灵活性大，可通过元素周期表元素组合获得无限种涂层。
（6）HiPIMS工艺涂层表面无液滴且极度光滑，优于电弧涂层等方法。
（7）超高金属离化率使涂层附着力强，含硅涂层硬度高，划痕负荷达120N，ALTiN涂层达130N。

应用领域：

1.工具涂层：广泛应用于切削工具、模具和其他工业设备的硬涂层。如在刀具上沉积HIPPIMS涂层，可以提高刀具的硬度、耐磨性和润滑性，降低切削力和摩擦系数，从而提高加工效率、延长刀具使用寿命，降低加工成本。
2.电子和光学设备：在半导体制造中，用于沉积各种功能薄膜，如阻挡层、电极材料、介质层等，以提高半导体器件的性能和可靠性；在光学涂层领域，可制备高折射率、低散射的光学薄膜，用于光学镜片、反射镜、滤光片等光学元件，提高其光学性能和稳定性；在太阳能电池领域，HIPPIMS技术可用于沉积透明导电薄膜、减反射薄膜等，提高太阳能电池的光电转换效率。
3.医疗器械：用于医疗器械的表面处理，如人工关节、牙科植入物、手术器械等。通过沉积具有良好生物相容性和耐腐蚀性的薄膜，可以提高医疗器械的抗磨损性能、抗菌性能和生物活性，减少植入物与人体组织之间的摩擦和排斥反应，提高医疗器械的使用寿命和安全性。

       HIPPIMS技术在真空镀膜领域具有独特的优势和广泛的应用前景，随着技术的不断发展和完善，其性能将不断提升，成本逐渐降低，应用范围也将进一步扩大。